台积电联席 COO 米玉杰：未来制程仍存进步空间，同客户合作至关重要
4 月 29 日消息，在 AMD 最新一期的 Advanced Insights 访谈中，台积电执行副总经理兼联席 COO(共同营运长)米玉杰表示，2nm 以下制程未来仍有进步空间，同客户的合作至关重要。Advanced Insights 是 AMD 的月更尖端技术访谈栏目，由 AMD 首席技术官及执行副总裁马克・帕普马斯特(Mark Papermaster)主持，近日发布的是该系列的第三集。
先进工艺仍有进步空间
米玉杰表示，先进工艺的进化还没有停止，整体来看机会和挑战并存。台积电采用双研发团队体制，两个团队交替推出最新制程，这意味着更多的时间和技术资源;目前每代制程的开发周期已达到 5 年乃至 7 年，相较之前的 2~3 年明显放慢，但并未止步。
从 7nm 后，台积电的每一代新制程都引入了新的技术。而在 2nm 节点，台积电将导入更复杂的 GAA 晶体管结构，目前仍定于 2025 年量产。
面向未来，台积电正进行多维度的开发推动半导体行业继续向前：台积电正在进行硅光子学的开发;也正同 DRAM 厂商加强 HBM 领域的合作;此外台积电还在研究将 3D 堆叠引入晶体管层面，也就是 CFET 晶体管结构。
同客户合作至关重要
帕普马斯特提到，自 2010 年代初以来，传统的代工厂-无厂设计企业合作模式逐渐显露出不足。现在代工订单的甲乙双方正以“亲如一家人”的形式为芯片的优化共同努力。
米玉杰也持有相近的观点，并表示 DTCO(IT之家注：Design-Technology Co-Optimization，设计工艺协同优化)正起着越来越大的作用：一方面，DTCO 有助于识别那些过于极端而相对缺乏价值的工艺改进路线，让制程开发聚焦于客户的真实需求，减少开发压力;
另一方面，DTCO 可帮助用户在产品的性能、能耗、面积三大要素间取得更好的平衡，达成单纯制程缩放难以实现的目标;此外，DTCO 也有助于“榨干”单一节点的技术潜力。
人工智能带来巨大机遇
米玉杰在访谈末尾提到，对于 HPC 领域而言，人工智能已跨过了是否有用的门槛，这激发了一年多来人工智能产业的蓬勃发展。他认为人工智能浪潮下 HPC 行业的繁荣程度将前所未有，超越当年的 PC 和智能手机行业。
